硅制造到3nm & 下面

早期的过程开发. 先进光刻. 收益管理.

硅工程是一代又一代芯片和电子创新的基础. 基于行业标准, 新濠天地网站的硅工程工具在已建立和新兴工艺节点的3nm及以下都经过了生产验证. 新濠天地网站的工具优化了速度、面积、功率、测试和产量之间的权衡.

行业领先的TCAD工具，用于过程和设备模拟

• 开发和优化半导体加工技术和器件
• 在开发过程中进行模拟分步运行，以减少昂贵、耗时的测试晶圆运行
  一个新的设备
• 探索工艺参数空间和产品设计方案
• 利用互连建模和提取工具获得的寄生信息优化芯片性能

CATS®软件用于卓越的掩模制造

• 将复杂的设计数据转换成机器可读的指令，用于模式生成
  和制造业
• 依靠业界最高的性能解决方案来进行屏蔽规则检查和模式匹配
• 通过精确和详尽的验证，达到口罩质量和成本目标
• 利用核心技术，独特地将制造信息与设计联系起来

用于高级光刻掩模合成的Proteus™OPC

• 执行全芯片光学接近校正，反光刻技术和加工
  检查和分析
• 增强模式保真度，最大化过程窗口
• 在将设计投入生产之前，识别传统工艺的失败
• 在制造环境中利用严格的Sentaurus™模拟参考流程

 收益管理和优化的行业标准

• 使用Yield Explorer®工具，将来自不同来源的与收益率相关的数据导入单个数据库
• 使用Odyssey缺陷数据管理快速识别影响产量的工具和过程
• 使产品/设计团队和FA实验室与Avalon的合作更加紧密
• 使用YieldManager®工具，通过统一的数据库实现完整的晶圆厂解决方案