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面具合成
先进光刻技术解决方案
掩模合成由光刻工具组成，用于开发和批量使用模型. Proteus的批处理工具为执行全芯片光学接近校正(OPC)提供了一个全面而强大的环境。, 逆光刻技术, 对修正后的IC版图进行工艺检查和分析.
对于开发使用模型, Proteus和Sentaurus光刻已经紧密集成，以提供最高的准确性和可预测性，交付更快的时间上市的结果. 新濠天地的掩膜合成工具已经经过了近20年的工业测试，是领先IDM和铸造厂的首选工具.